潔凈室的溫濕度控制。潔凈實(shí)驗室高效安全的手術(shù)室空氣凈化系統，保證手術(shù)室的無(wú)菌環(huán)境，可以滿(mǎn)足器官移植、心臟、血管、人工關(guān)節置換等手術(shù)所需的高度無(wú)菌環(huán)境。采用高效低毒消毒劑，以及合理使用，是保障一般手術(shù)室無(wú)菌環(huán)境的有力措施。實(shí)驗室凈化確保手術(shù)臺潔凈度達標，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術(shù)室是一個(gè)"正壓"環(huán)境，其空氣壓力根據其不同區域（如手術(shù)間、無(wú)菌準備間、刷手間、麻醉間和周?chē)蓛魠^域等）潔凈度不同要求而不同。潔凈空間的溫度和濕度主要根據工藝要求確定，但在滿(mǎn)足工藝要求的條件下，應考慮人們的舒適性。隨著(zhù)空氣潔凈度要求的提高，對溫濕度的要求也越來(lái)越嚴格。

具體工藝的溫度要求將在后面列出，但作為一般原則，由于加工精度越來(lái)越精細，對溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如，在大型集成電路產(chǎn)生的光刻曝光過(guò)程中，對玻璃和硅片作為掩模板材料的熱膨脹系數的要求越來(lái)越小。直徑100um的硅芯片，溫度增加1度，造成0.24um線(xiàn)性膨脹，因此必須有0.1度的恒定溫度，同時(shí)需要一般低的濕度值，因為出汗后，產(chǎn)品會(huì )受到污染，尤其是害怕鈉的半導體工場(chǎng)。這種車(chē)間不得超過(guò)25度。

高濕度的問(wèn)題更多。當相對濕度超過(guò)55%時(shí)，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，冷卻水壁上的凝結會(huì )引起各種事故。相對濕度在50%時(shí)容易生銹。此外，當濕度過(guò)高時(shí)，硅片表面化學(xué)吸附的灰塵通過(guò)空氣中的水分子很難去除。相對濕度越高，去除膠粘劑的難度越大，但當相對濕度小于30%時(shí)，由于靜電的作用，顆粒很容易吸附在表面，大量的半導體器件容易分解。硅片生產(chǎn)的最佳溫度范圍為3545%。